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高光譜測試系統

產品簡介

高光譜測試系統基于offner型的凸面光柵分光系統，其原理新穎，相比較其他分光系統具有光學相對孔徑大、色散線性度好、結構 緊湊和圖像成像質量佳等優點。

產品型號：
更新時間：2025-01-22
廠商性質：生產廠家
訪問量：1773
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高光譜測試系統

 

  • 基于offner型的凸面光柵分光系統，其原理新穎，相比較其他分光系統具有光學相對孔徑大、色散線性度好、結構 緊湊和圖像成像質量佳等優點。該種類型組成的成像光譜儀在效率（能量利用率）和光學畸變相比較其他類型的成 像光譜儀中性能表現.佳。系統中由于采用專門研制的閃耀光柵，平均效率高達60%以上，替代了美國headwall 高效率成像光譜儀系列產品（注：該類型產品被美國列為為禁運）。匹配的相機采用SCMOS相機，平均量子效率 高達60%，靈敏度和性能達到了EMCCD 相機的水平。

高光譜測試系統核心優勢：

  • 全反射光學設計； F/2.2 大通光孔徑
  • 高效率凸面光柵；消除梯形失真和曲線彎曲
  • 寬波譜范圍；杰出的光譜/空間分辨率
  • 理想的弱照明、弱信號環境下的應用
  • 結構緊湊、寬視場角
  • 非常高的信噪比；低散射或者雜散光水平
  • 穩定和耐用的堅固設計；高性價比，多種標準鏡頭選配

名稱

VNIR成像光譜儀

SWIR成像光譜儀

SWIR成像光譜儀

光譜范圍（nm）

400-1000

900-1700

1000-2300

分光類型

凸面光柵分光

光譜分辨率（狹縫25um）

3-4 nm

優于10 nm

10nm

光譜分辨率（狹縫12um）

1.5-2 nm

優于5nm

/

光學孔徑F/#

F/2.2

狹縫高度

12mm

像素色散值

0.6nm

3.6nm/pixel

7nm

光譜波長精度（nm)

優于1

優于2

優于4

光學系統效率（平均）

60%

光譜通道

256-1152(可編程）

220

空間通道

2048

320

SCMOS相機

像元：6.5um*6.5um像元 數：2048*1152 QE＞70%@595nm

像元：15um*15um 像元數：640*512

像元：30um*30um 像元數：320*256

數據量化位數

16

12

前置鏡頭

焦距17mm

焦距4.8-70mm,可選配

儀器重量（kg）

4.2

4.5

尺寸（mm)

215*175*110

260*175*110

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