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當前位置：首頁產品中心光譜系統顯微熒光系統S-MPL系列顯微熒光成像系統

顯微熒光成像系統

產品簡介

S-MPL系列顯微熒光成像系統
光致發光（photoluminescence）即PL，是用紫外、 可見或紅外輻射激發發光材料而產生的發光，在半 導體材料的發光特性測量應用中通常是用激光（波 長如325nm、532nm、785nm等）激發材料（如 GaN、ZnO、GaAs等）產生熒光，通過對其熒光光譜（即PL譜）的測量，分析該材料的光學特性，如禁帶寬 度等。

產品型號：S-MPL系列
更新時間：2025-01-22
廠商性質：生產廠家
訪問量：1508
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S-MPL系列顯微熒光成像系統簡介

  • 光致發光(photoluminescence)即PL，是用紫外、 可見或紅外輻射激發發光材料而產生的發光，在半 導體材料的發光特性測量應用中通常是用激光（波 長如325nm、532nm、785nm等）激發材料（如 GaN、ZnO、GaAs等）產生熒光，通過對其熒光光譜（即PL譜）的測量，分析該材料的光學特性，如禁帶寬 度等。光致發光可以提供有關材料的結構、成分及環境 原子排列的信息，是一種非破壞性的、高靈敏度的分析 方法，因而在物理學、材料科學、化學及分子生物學等 相關領域被廣泛應用。
  • 傳統的熒光光譜儀一般采用透鏡收光的方式，針對發光 非常微弱的納米材料，即便用激光器激發，也很難獲得 較好的信號。結合多年的實際測樣經驗，我司推出了顯 微PL系統，采用顯微物鏡收光，較傳統的熒光光譜儀其 收光效率提升了至少3個數量級，因此特別適用于傳統 熒光系統難以檢測到的微弱信號，另外其輔助的白光成 像功能，還可以實現微區（微米級）定位測量。

應用領域：

  • 半導體材料
  • 二維材料
  • 納米材料
  • 薄膜材料
  • 光波導器件
  • LD, LED外延片

產品特點：

  • 光譜范圍：200-1700nm
  • 光斑大小：≤10μm（325nm激光、100X物鏡）
  • 光譜分辨率：優于0.1nm
  • 白光成像分辨率：亞微米級
  • 激光器：266nm、325nm、360nm、405nm、488n- m、510nm、532nm、633nm、785nm等可選
  • 樣品臺：手動/電動可選
  • 采譜模式：單點掃描/線掃描可選

 S-MPL系列顯微熒光成像系統系統功能：

  • 微區PL測量
  • 可同時配置多路激光器
  • 自由光路耦合，保障大光效率
  • 顯微光路設計，保障大激發、收集效率
  • 高精度位移臺，實現微米級定位測量

擴展功能：

  • 微區電致發光（EL）測量
  • 熒光壽命測量：ps-ms量級
  • 自動Mapping功能：50mm×50mm行程，步進精度 1μm
  • 光電流譜（成像）測量
  • 光電材料響應度測試
  • 變溫附件：77K-600℃/4K、10K超低溫

S-MPL系列顯微熒光系統 

 

 

 

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